Sensofar干涉技術(shù)：從原理到場(chǎng)景應(yīng)用

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Sensofar干涉技術(shù)：從原理到場(chǎng)景應(yīng)用
干涉技術(shù)是 Sensofar S neox 實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量的核心支撐，包含白光干涉與相位移干涉兩種模式，結(jié)合創(chuàng)新設(shè)計(jì)適配多樣測(cè)量需求。

產(chǎn)品型號(hào)：S neox

更新時(shí)間：2025-10-23

廠商性質(zhì)：代理商

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Sensofar干涉技術(shù)：從原理到場(chǎng)景應(yīng)用

干涉技術(shù)是 Sensofar S neox 實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量的核心支撐，包含白光干涉與相位移干涉兩種模式，結(jié)合創(chuàng)新設(shè)計(jì)適配多樣測(cè)量需求。

白光干涉（CSI）基于白光短相干特性，光源經(jīng)分光鏡分為參考光與測(cè)量光，反射合并后產(chǎn)生干涉條紋。由于白光相干長(zhǎng)度僅微米級(jí)，僅光程差接近零時(shí)形成高對(duì)比度條紋，系統(tǒng)通過垂直掃描捕捉信號(hào)，結(jié)合相位分析重建形貌。該模式縱向分辨率 0.1nm，橫向分辨率 0.16μm，單次掃描深度 8mm，支持 86° 斜率表面測(cè)量，適配模具、增材制造零件等復(fù)雜結(jié)構(gòu)。在量子點(diǎn)薄膜研究中，可定位 20μm 焊球下方 0.5μm 級(jí)微裂紋。

相位移干涉通過壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)參考鏡實(shí)現(xiàn)相位移動(dòng)，采集多幅圖樣提取高度信息，縱向分辨率達(dá)亞納米級(jí)，且不受放大倍數(shù)影響。搭配 2.5 倍鏡頭時(shí)，既能實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)觀測(cè)，又保持超高縱向精度，適合大面積光滑表面測(cè)量，如光學(xué)鏡片的微觀形貌分析。

設(shè)備還集成紅、綠、藍(lán)三色 LED 光源，單次掃描可同步獲取表面形貌、膜厚分布及材料折射率，減少多次測(cè)量誤差。量子點(diǎn)增強(qiáng)型 CMOS 傳感器在 180 幀 / 秒高速采集下，仍保持 0.12μm 橫向分辨率，支持液體噴射成型等動(dòng)態(tài)過程監(jiān)測(cè)。

干涉技術(shù)參數(shù)與應(yīng)用對(duì)應(yīng)表

技術(shù)類型	分辨率參數(shù)	適配場(chǎng)景
白光干涉	縱向 0.1nm，橫向 0.16μm	半導(dǎo)體晶圓、粗糙零件
相位移干涉	亞納米級(jí)縱向精度	光學(xué)鏡片、超光滑表面
多波長(zhǎng)干涉	同步獲取形貌與膜厚	薄膜材料檢測(cè)