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LinKam冷熱臺參數(shù):適配不同高溫真空需求

產品簡介

LinKam冷熱臺參數(shù):適配不同高溫真空需求
TS1500V 的各項參數(shù)設計充分考慮不同實驗場景與樣品特性的需求,理解參數(shù)含義有助于用戶選擇合適的實驗方案。

產品型號:
更新時間:2025-10-23
廠商性質:代理商
訪問量:119
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LinKam冷熱臺參數(shù):適配不同高溫真空需求

TS1500V 的各項參數(shù)設計充分考慮不同實驗場景與樣品特性的需求,理解參數(shù)含義有助于用戶選擇合適的實驗方案。溫度參數(shù)是核心指標之一,設備支持室溫至 1500℃的溫度范圍調節(jié),1500℃的高溫適用于陶瓷材料燒結、金屬粉末冶金等需要高溫處理的實驗,如氧化鋁陶瓷樣品在 1450℃下保溫 2 小時,可完成燒結過程;而對于高分子材料熱穩(wěn)定性測試,通常設置 200-500℃的溫度范圍,避免溫度過高導致樣品碳化。
升溫速率參數(shù)可在 0.1-100℃/min 范圍內調節(jié),不同樣品需匹配不同速率:金屬材料退火實驗適合 5-10℃/min 的中速升溫,確保材料內部溫度均勻,減少應力產生;而快速熱循環(huán)實驗可選擇 50-100℃/min 的高速升溫,縮短實驗時間。降溫速率通過自然冷卻或輔助冷卻系統(tǒng)控制,自然冷卻時從 1500℃降至室溫約需 2 小時,搭配冷卻風扇可將降溫時間縮短至 1 小時,滿足需要快速重復實驗的場景。
真空度參數(shù)從大氣壓至 10??mbar 可調,高真空(10??-10??mbar)適用于金屬材料真空熔煉、半導體薄膜沉積實驗,可減少氣體對樣品的氧化影響;低真空(10?2-10?3mbar)則適合陶瓷材料脫氣實驗,平衡脫氣效率與設備抽真空時間。以下為 TS1500V 核心參數(shù)表:
參數(shù)類別
具體參數(shù)
溫度范圍
室溫 - 1500℃
升溫速率
0.1 - 100℃/min
真空度范圍
大氣壓 - 10??mbar
樣品槽尺寸
直徑 10mm × 深度 2mm
溫度測量誤差
±1℃
加熱元件材質
鉬絲
真空腔體材質
不銹鋼

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