基恩士VK?X3000 的三種掃描原理與優(yōu)勢

基恩士 VK?X3000 通過激光共聚焦、白光干涉、聚焦變化三套掃描技術(shù)，為不同材料提供適合的測量方案。

1. 激光共聚焦

• 采用 405?nm 及以下波長的固體激光，光斑直徑可調(diào)至亞微米級。

• 雙共焦針孔抑制離焦光，提升信噪比，實(shí)現(xiàn) 0.01?nm 級分辨率。

• 適用于金屬、陶瓷等高反射或不透明樣品的三維形貌測量。

2. 白光干涉

• 基于寬譜 LED 光源，利用相位差實(shí)現(xiàn)亞納米級高度測量。

• 對透明或半透明材料（如光刻膠、薄膜）提供無接觸、無損測量。

• 可在 50?mm?×?50?mm 大視場內(nèi)完成全景掃描。

3. 聚焦變化（焦距掃描）

• 通過改變光學(xué)系統(tǒng)的焦距，實(shí)現(xiàn)對樣品不同深度的快速掃描。

• 適合形狀復(fù)雜、凹凸不平的樣品（如微機(jī)電結(jié)構(gòu)）進(jìn)行快速輪廓捕獲。

綜合優(yōu)勢

• 靈活切換：軟件一鍵切換三種模式，省去更換光學(xué)部件的時間。

• 高效測量：高速掃描配合自動聚焦，單次測量時間可在秒級完成。

• 數(shù)據(jù)完整：系統(tǒng)自動生成 3D 點(diǎn)云、等高線圖和表面粗糙度報(bào)告，滿足科研與工業(yè)雙重需求。

  
  

產(chǎn)品配置了多種型號的物鏡，包括長工作距離物鏡，用于觀察高低落差較大的樣品；還有專門設(shè)計(jì)的物鏡，用于減小像差，提升邊緣視場的成像質(zhì)量。用戶可以根據(jù)樣品的材質(zhì)、形狀和測量目標(biāo)，選擇合適的物鏡進(jìn)行工作。

VK-X3000的用途因此十分廣泛。它可以用于測量金屬件的加工粗糙度，檢查玻璃表面的微小劃痕，評估高分子材料的磨損情況，分析涂層或鍍層的厚度與均勻性，甚至觀察生物材料的表面結(jié)構(gòu)。這種對多材料的適應(yīng)性，使其成為跨行業(yè)研發(fā)和品質(zhì)管理中一種有用的工具。